mask aligner半自動光刻機

半自動光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球*的半導體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400M, MDA-60MS



mask aligner半自動光刻機主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調(diào)；
- 技術(shù)：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng)，最大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能；