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簡要描述：射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-02-27訪 問 量：1289詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
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射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件
簡介：
射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS
射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件
技術(shù)參數(shù)：
射頻離子源
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長度：290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：57mm, 96mm
兼容氣體：O2, N2, H2, Ar
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：8-10sccm
束流能量：0.1-1kev
電流密度：可大到5mA/cm2
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）
射頻原子源
安裝法蘭口徑：NW35CF，NW63CF，NW100CF
真空腔體內(nèi)長度：290mm
真空腔體內(nèi)端面直徑：34mm,57mm, 96mm
兼容氣體：O2, N2, H2, CH4
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：0.01-20sccm
主要特點(diǎn)：
無燈絲
安裝容易，可方便地安裝在已有系統(tǒng)上
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