磁控濺射鍍膜由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。

　　蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備，用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。

　　磁控濺射鍍膜用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備，同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質量和牢固度。系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（2個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

　　設備配有陽極層離子源，可對樣品進行清洗，同時，可在鍍膜時，對樣品進行輔助沉積，用于反應氣體進氣和氬氣氣路，具有混氣功能；腔內氣壓可測可調可控。濺射室烘烤照明采用紅外加熱除氣方式，真空室內有襯板，避免濺射材料直接濺射到濺射室真空壁上。設備具有斷水斷電連鎖保護功能，有防止誤操作保護功能，系統(tǒng)采用手動控制膜制備過程可控制靶擋板、樣品轉動、樣品控溫等。